一、公司基礎概況

1. 工商核心信息

全稱：深圳穩頂聚芯技術有限公司

成立時間：2023 年 05 月 24 日

法定代表人：陳海霞

注冊地址：深圳市南山區粵海街道深港產學研基地 W801

注冊資本：125.06205 萬元人民幣，企業狀態：存續

統一社會信用代碼：91440300MA5HWRF56N

行業定位：半導體光刻設備研發、生產、銷售，專精特新高新技術小微企業

2. 企業定位與核心業務

穩頂聚芯是國內專注化合物半導體、特色工藝步進式光刻機的國產設備廠商，品牌代號 WONDER SIGHT，聚焦成熟特色工藝賽道實現光刻裝備國產替代，避開先進邏輯芯片賽道，主攻第三代半導體、顯示、光電子、MEMS 等細分市場。

核心主力產品：WS180i 系列高精度步進式光刻機

適配 SiC/GaN 功率器件、Mini/Micro LED、光芯片、射頻器件、MEMS 傳感器；兼容硅片、藍寶石、碳化硅、氮化鎵等各類襯底，光刻分辨率 1–3μm，覆蓋新能源、車載功率半導體產業鏈。

配套檢測與核心子設備

套刻量測機（量測精度 10nm）、薄膜測厚設備、晶圓傳輸機械手、主動減震平臺、光學成像評價系統、離軸對準模組、高精度快門與可變光闌組件等，形成光刻全鏈路配套能力。

核心自研技術壁壘

全自主光刻機曝光控制軟件、掩模 / 晶圓傳輸系統、高精度對準算法（全套操作系統國產化，無國外底層依賴）；

超精密光學系統設計與裝調、納米級工件臺運動控制、特種高壓光源電源；

布局 30 余項發明**，覆蓋光路、機械、傳動、量測、控制全鏈條，4 項光刻系統軟件著作權。

3. 團隊與產線實力

研發團隊：85% 以上成員為海內外名校碩士，核心骨干來自中科院、清華及全球頭部半導體設備企業，擁有 20 年以上光學、精密機械、光刻裝備研發經驗；

生產基地：深圳 2000㎡研發制造基地，配備十級 / 百級 / 千級分級潔凈裝配實驗室；2025 年設備設計產能 20 臺 / 年；

人員規模：2024 年末參保員工 37 人，以光學、機械、電控、算法研發人員為主。

4. 資質榮譽（截至 2026 年 6 月）

***：科技型中小企業、高新技術企業；

省級：專精特新中小企業、省級科學技術進步獎；

知識產權：** 30 件、商標 17 項、光刻系統軟件著作權 4 項。

5. 融資資本進展

公司成立后快速完成多輪機構融資，投資方包含普禾資本、凱鼎投資等專業硬科技 VC：

A 輪、A + 輪：完成初代設備研發、潔凈車間搭建；

2026 年 3 月完成 B 輪融資，資金用于 WS180i 光刻機量產迭代、市場客戶認證拓展；

2026 年中推進 B + 輪，擴大產能與產品線研發。

二、完整發展歷程（2023–2026）

2023 年：公司創立，底層技術攻堅期

5 月 24 日，深圳穩頂聚芯正式注冊成立，團隊組建完成，確立 “特色工藝光刻機國產替代” 路線；

下半年完成初代接觸式 / 接近式 Mask Aligner 光刻機整機設計，突破光學鏡頭、晶圓傳輸、整機控制軟件三大核心模塊；

入選深圳市***科技型中小企業名單，啟動潔凈實驗室裝修與核心零部件供應鏈國產化驗證；

完成首輪 A 輪融資，搭建機械、光學、電控三大研發實驗室，啟動離軸對準、高精度快門**布局。

2024 年：設備原型驗證，**與資質落地

完成初代步進式光刻機工程樣機組裝、整機聯調，攻克可變矩形光闌、高度測量補償等關鍵結構；

持續輸出光刻機光路、工件臺、量測相關**，全年新增** 20 余項，完成曝光系統、晶圓傳輸系統軟件著作權登記；

通過企業高新企業前期培育，搭建完整供應鏈體系，完成多家功率半導體、LED 廠商小批量樣機送樣測試；

擴充潔凈車間至 2000㎡，形成小批量裝配調測能力，員工規模穩定至 37 人；

完成 A + 輪融資，優化 WS180i 機型工藝適配能力，兼容厚膠、化合物襯底特殊光刻場景。

2025 年：里程碑之年，首臺商用光刻機下線

全年持續迭代 WS180i 步進式光刻機，設備通過多家頭部化合物半導體工廠嚴苛工藝認證；

9 月 23 日重大節點：自主研發首臺 WS180i 高精度步進式光刻機正式出廠，填補國內中低端步進光刻設備國產化空白，大幅降低國內功率器件、Mini LED 產線對進口光刻機依賴；

獲評***高新技術企業、省級專精特新中小企業，斬獲省級科技進步獎項；

釋放年產 20 臺設備產能規劃，啟動**半導體客戶市場拓展，鎖定新能源車載 SiC、光通信芯片批量訂單意向；

量產配套量測、薄膜檢測設備同步推向市場，形成 “光刻主機 + 檢測設備” 成套解決方案能力。

2026 年：規?；谫Y，產品線迭代擴張（截至 6 月）

3 月完成 B 輪風險融資，資金用于量產產線擴建、新一代機型研發、**客戶技術服務網點搭建；

持續迭代 WS180i 機型，優化套刻精度、襯底兼容性，同步開發更高分辨率二代步進光刻機預研；

批量交付商用光刻機至國內多家第三代半導體、顯示芯片工廠，設備稼動率與工藝指標獲客戶驗證；

持續新增光刻機光路、雜散光抑制、自動對準相關實用新型與發明**，完善知識產權壁壘；

啟動 B + 輪融資籌備，規劃拓展 MEMS、射頻器件專用光刻設備產品線，延伸泛半導體市場覆蓋。

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深圳電商商業股份有限公司

2026/6/18